在科技飞速跃进的当下，众多产业对筛网精度的渴求愈发强烈，电铸筛网凭借自身优势，在微米级精度领域已有所建
树。然而，随着新兴技术的崛起，微米级精度是否足以支撑电铸筛网持续突围，成为行业关注焦点。
当前，在半导体制造、医疗等领域，电铸筛网的微米级精度发挥着重要作用。在半导体晶圆切割环节，电铸筛网能有
效拦截 0.1μm 的颗粒污染物，助力晶圆良率提升 30% 以上。在医疗行业，用于生物医药微流控芯片制造时，其微米级
网孔可对细胞、蛋白质等生物大分子进行精准筛选。在电子元件制造方面，部分高精度的电子元器件生产中，电铸筛网
能精准过滤掉生产环境中的细微尘埃，保障电子元件性能的稳定性，减少因杂质导致的产品故障。这些应用成果无疑彰
显了电铸筛网在微米精度层面的价值。卓力达集团自主研发的 4 微米超高精度电铸筛网成功实现国产化，更是填补了国
内空白，其孔隙误差能控制在 ±0.1 微米以内，为相关产业发展提供了有力支撑。
效拦截 0.1μm 的颗粒污染物，助力晶圆良率提升 30% 以上。在医疗行业，用于生物医药微流控芯片制造时，其微米级
网孔可对细胞、蛋白质等生物大分子进行精准筛选。在电子元件制造方面，部分高精度的电子元器件生产中，电铸筛网
能精准过滤掉生产环境中的细微尘埃，保障电子元件性能的稳定性，减少因杂质导致的产品故障。这些应用成果无疑彰
显了电铸筛网在微米精度层面的价值。卓力达集团自主研发的 4 微米超高精度电铸筛网成功实现国产化，更是填补了国
内空白，其孔隙误差能控制在 ±0.1 微米以内，为相关产业发展提供了有力支撑。
但新兴行业如量子计算、纳米技术等的蓬勃发展，对筛网精度提出了近乎严苛的要求。量子计算中，需借助筛网对极
其微小的量子态物质进行操控与筛选，纳米技术则期望筛网能实现纳米级甚至原子级的物质分离。这意味着，电铸筛网
现有的微米级精度面临巨大挑战。从技术发展角度看，虽然电铸筛网目前能实现微米级精度，但在迈向纳米级精度的道
路上，存在诸多难题。比如，在制造复杂三维结构时，电场分布不均匀、电解液传质困难等因素，严重阻碍了精度的进
一步提升。在材料选择方面，现有材料体系也难以满足特殊性能要求。
南通卓力达专注于金属蚀刻元件和 SMT 激光切割的技术研发、工艺创新及生产，是蚀刻行业中迅猛发展的制造商，其
自主研发的 4 微米超高精度电铸筛网成功实现国产化，填补了国内空白，孔隙误差能控制在 ±0.1 微米以内，为相关产
业发展提供了有力支撑。在工业过滤领域，凭借先进的生产工艺，卓力达的电铸筛网也展现出卓越性能。
微米时代，电铸筛网虽已取得一定成绩，但突围之路充满挑战。只有通过持续的技术创新，攻克精度提升、材料优化
等难题，电铸筛网才能在新兴行业需求的浪潮中突出重围，继续在筛网领域发挥关键作用，为各行业的技术革新提供坚
实保障 。